Folosirea spectroscopiei de fotoelectroni cu raze X și spectru de valență pentru determinarea tacticității polimerilor

Analiza XPS este o metoda importanta pentru caracterizarea suprafetei polimerilor. Dezovoltarile in sursa monocromatica cu raze X cuplata cu sisteme de neutralizare cu energie sufiecienta au jucat un rol de baza in analizele ce au urmat si a intelegerii suprafetei polimerilor.

Acest studiu investigheaza posibilitatea de a remarca tacticitatea PMMA-ului folosind XPS.

Analiza XPS a fost efectuata pe un spectroscometru de ultra electroni cu axe Kratos folosind surse de raze X monocromatice A1 Ka operate la 450 W. Neutralizarea incarcata a fost obtinuta de sistemul de neutralizare incarcata Kratos ce are unica abilitate de a compensa incarcare consistenta chiar si in apropierea unghiului de plecare razant.

Toti parametrii neutralizarii au ramas constanti pe durata analizei. Regiunile cu rezolutie inalta C1s , O1s si a benzii de valenta au fost obtinute folosind 20 eV peste energie. Analiza a fost realizata folosinf unghiuri de plecare de 90- (normal) si 15-

Izomerii PMMA - ului (atactic, izotactic si sindiotactic) au fost pregatiti pe substraturi de sticla prin turnare rotire de la 1% w/w solutie in toluen.

Spectrul cercetat obtinut la un unghi de plecare de 90- pe 3 izomeri a PMMA - ului sunt prezentati in Figura 1. Spectrul ne arata indicativele fotopicurilor C1s si O1s a PMMA - ului. Exista aproximativ 0.5% contaminare cu Si pe proba izotactica de PMMA.